جزوه تئوری و تکنولوژی ساخت قطعات نیمه هادی دکتر فتحی پور به بررسی فرآیندهای اساسی و تکنولوژی های مورد استفاده در تولید مدارهای مجتمع سیلیکونی می پردازد. این جزوه با تمرکز بر شبیه سازی های کامپیوتری و تاریخچه ی فناوری، به آموزش تکنیک های مدرن ساخت نیمه هادی ها می پردازد.
مقدمه
جزوه تئوری و تکنولوژی ساخت قطعات نیمه هادی نوشته ی دکتر فتحی پور، به عنوان یکی از منابع معتبر در زمینه ی ساخت و تولید مدارهای مجتمع (ICs)، به تشریح فرآیندهای پیچیده و تکنولوژی های پیشرفته ای که در این حوزه مورد استفاده قرار می گیرند، می پردازد.
این جزوه با شروع از تاریخچه ی تحول در فناوری های تراشه های سیلیکونی، به طور جامع به بررسی مراحل مختلف تولید قطعات نیمه هادی از جمله نقش نگاری نوری، کاشت یون ها، رسوب گذاری بخارات شیمیایی، و اکسیداسیون حرارتی می پردازد. همچنین استفاده از ابزارهای شبیه سازی کامپیوتری در طراحی و بهینه سازی فرآیندها، به عنوان یکی از موضوعات کلیدی در این جزوه مورد تأکید قرار گرفته است.
دکتر فتحی پور با بهره گیری از مثال های کاربردی و نمودارهای دقیق، پیچیدگی های مرتبط با مقیاس گذاری تکنولوژی و چالش های آینده در توسعه ی قطعات نیمه هادی را تشریح می کند. این جزوه به گونه ای طراحی شده که دانشجویان و متخصصان این حوزه، با مطالعه ی آن قادر به درک عمیق تری از فرآیندهای مختلف تولید قطعات نیمه هادی و نحوه ی بهینه سازی آن ها در مقیاس صنعتی شوند.
از مهم ترین بخش های این جزوه، می توان به توضیحات مربوط به پیشرفت های اخیر در زمینه ی تکنولوژی سیلیکونی و تاثیرات این پیشرفت ها بر روند تولید مدارهای مجتمع اشاره کرد. این جزوه با نگاهی جامع و دقیق، به بررسی تکنولوژی هایی که آینده ی صنعت نیمه هادی را شکل خواهند داد می پردازد.
فهرست مطالب :
فصل اول : معرفی و تاریخچه
فصل دوم : تکنولوژی VLSI سیلیکن
فصل سوم : رشد بلور ، ساخت قرص و خواص اساسی قرص های سیلیسیمی
فصل چهارم : اتاق تمیز ، تمیز کردن قرص و جذب
فصل پنجم : نقش و نگار نوری
فصل ششم : اکسیداسیون گرمایی
فصل هفتم : نفوذ
فرمت فایل: PDF
تعداد صفحات: 568
مطالب مرتبط